Equipment

DUC-S800

130000

Equipment

DUC-S800

130000

設備規格

  1. 清潔模式: 非接觸式
  2. DUC清潔速度: UPH 65 (strip/hr)
  3. 晶片清潔率: ≥90%
  4. 靜電保護: 平均電壓< ±30 Volts
  5. AOI模組: 10.5x10.5mm中可即時檢查出 10um以上particle 

設備特色

DUC模組使用超音波清潔,利用超音波碰撞引起的擾流有助於打破邊界層,並利用真空捕獲顆粒。

設備說明

產業遭遇問題: 目前歐洲車廠建立廠規針對車用電子晶片需無粉塵,避免長時間後融進pattern會造成短路,間接影響行車安全。End User在打線後,尋找可清潔且不造成線塌及斷線的設備。其製程為After wire bond做清潔,需自動(Auto move in/out)將substrate上的particle清除, 並不可對產品造成汙染。目前乾式清潔模組(DUC)國外指標大廠為美國ECO-snow,使用Snow clean乾式噴洗Wafer,但高壓空氣推動 snow顆粒,清洗wire bond時會造成線塌及斷線,且國外廠商不願 意進行客製機種的開發及改機。

解決方法: (產業現況無此製程設備,為新增設多一製程之設備開發)

  • 現況並無相對應製程設備,固本公司因應客戶需求新增設開發設備。此設備功能包含: (1) DUC乾式超音波清潔 (2) AOI光學檢測 (3) 低成本的特性。